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クリーンブースの仕組みがどうなっているか分からないと、導入に踏み切れないと思います。クリーンルーム工事をしなくても大丈夫なのか、クリーンブースでも十分な清浄度を得られるのか心配でしょう。
このページではクリーンブースの基本的な構造と仕組みを、設計・運用の観点で実務に使える厚みで解説します。
クリーンブースは、クリーンルーム内でさらに高い清浄度を確保する局所クリーン化や、一般環境の一部のみをクリーン化する用途に用いられます。天井側のクリーンモジュール(FFU)で空気を吸引→プレフィルター→HEPA/ULPAで微粒子を除去→整流して作業域へ供給、という流れが基本です。
ブースの排気は、周囲のカーテン下端やスリットから低層で排出するのが特長です(床レベルの負圧で塵を掃き出す)。一方、室全体を対象とするクリーンルームは循環主体で、意図的な局所排気は少なめです。
設計メモ: 供給風量 Q[m³/h]、室容積 V[m³] とすると ACH=Q/V。W×D×H=4.0×4.0×2.4m(V=38.4)のブースに Q=3,840 を供給すれば ACH=100 回/h。有効容積(装置占有を除外)で再計算すると、必要風量が数~十数%変わります。
複雑な風量計算や仕組みの設計を
専門メーカーに相談・丸投げする
人の注意だけでは限界があります。エアシャワー、付着塵を可視化するライト(青紫+偏光)、ミストストリームなどの支援機器で発塵源の前処理と見える化を行うと、再汚染を顕著に抑えられます。
ワイピングクロス、クリーンワイパー、粘着ローラー等の適材適所が重要です。拭き方向の標準化(上→下、清浄→汚染側)、低発塵材質の採用、アルコール濃度の指定で二次汚染を防止します。
粒子計(0.5/0.3µm)だけでは付着塵・繊維塵の評価が難しい場合があります。粗大粒子カウンター、落下塵プレート、可視化ライトを併用し、日常点検→週次→月次の多層モニタリングを設計します。
最終的には人の動作が最大の変動要因。入退室手順、服装、手袋交換、工具の収納位置まで標準化し、四半期ごとの再教育で定着させます。教育前後の粒子値・不良率の比較を掲示すると、遵守率が上がります。
気流方式で「一方向流(ユニディレクショナル)」と「乱流(コンベンショナル)」に大別されます。用途により最適解が異なります。
ダウンフロー:天井全面にフィルターを配置し、垂直一方向に0.3〜0.5m/sで送風、床面・側面で回収。回復性が高く、作業者影響が小さいのが利点。半導体・無菌工程などで主流です。
クロスフロー:側壁→対向壁へ水平一方向流。上流側の清浄度が高く、装置前面のみを強化できるため、局所スポットのクリーン化に有効ですが、下流側は清浄度が低下しやすい点に注意。
参考値:一方向流の目安 ACH=250〜650 回/h、室内差圧 0.5〜3 mmAq。設計は面風速×開口面積から風量を積み上げ、ダクト・グリル圧損を含めてファン静圧を決めます。
天井中央等から拡散供給し、天井・壁面で回収。設定目安 ACH=10〜80 回/h、差圧 0.5〜3 mmAq、対応クラスは概ね ISO 6〜8(旧1,000〜100,000)。初期費用と拡張性に優れ、多くの現場で採用されていますが、四隅のデッドゾーンや定常化までの時間に留意します。
外気を取り込み FFU で清浄化して供給。空調精度が高く、有機溶剤・臭気対策にも適合しやすい一方、フィルター負荷と電力が増えます。吸排気の熱回収(全熱交換器)で省エネ性を補う設計が有効です。
室内空気を循環清浄。初期・運用コストは低めで、室塵が少ない工程では十分。ただし、ドア開閉や人の出入りに弱く、回復性が低下しがち。最小限の外気導入と前室(サブカーテン)追加で安定度が向上します。
排気開口(下端スリット等)が広すぎると排気風速が不足→沈降・滞留が発生、狭すぎると過大風速で巻き上げが生じます。目安は1.5〜3.0 m/s。必要開口面積 A は A=Qexhaust / (3600×v) で算出(Q[m³/h], v[m/s])。
計算例: 排気量 3,000 m³/h、目標 v=2.0 m/s → A=3,000/(3600×2.0)=0.417 m²(例:周辺合計長さ 8m ならスリット高さ ≒52mm)。
FFU は天井埋込・吊下げが一般的で、軽量・薄型化が進んでいます。前段に粗塵・中性能、必要に応じて活性炭やケミカルフィルターを追加。パーティション型や床置型もあり、既設ラインへ後付けしやすいのが利点です。
プレフィルター:10µm以上を主対象。掃除機・水洗い等のメンテが容易で、HEPAの寿命延長に直結します。差圧上昇が 10Pa/週 を超える場合は交換・清掃頻度の見直しを。
High Efficiency Particulate Air の略。JIS では「定格風量、粒径0.3µmに対して99.97%以上の捕集率、初期圧損245Pa以下(代表値)」が目安。再生不可なので通常 2〜5年で交換します。ISO Class 5〜8の多くの工程で標準です。
Ultra Low Penetration Air。0.15µmで99.9995%以上(U15)など、HEPAより高効率。半導体前工程や無菌充填、BSL施設等で採用。圧損とコストが増えるため、局所のみ ULPA とする設計が費用対効果に優れます。
塩ビシート構造は蓄熱しやすく、無空調だと夏季は高温化します。目安は室温 23℃・湿度 55%前後。欄間開口、スポット空調、外気負荷の評価を行い、熱源(装置)上部の排気強化で体感を改善します。
シートは機械的強度が低く、接触・荷重で破れやすい。動線計画とバンパー・柱ガード、開口部の補強で事故を低減。必要に応じてパネル面の採用も検討します。
食品等では特に警戒が必要。下端の隙間対策、粘着マット、陽圧化、帯電防止カーテン、導電床で静電付着を抑制。夜間照明の波長管理も有効です。
クリーンブースは簡易構造=変動要因に敏感という特性があります。清浄度の安定には、設備だけでなく運用ルールが不可欠です。
点検は「差圧・面風速・粒子・温湿度」を最低限とし、逸脱時の復旧手順(強運転時間、清掃範囲、検査再実施)を作業標準に明記します。
クリーンブースは、クリーンルームに比べ短工期・低コストで、必要な場所だけ高い清浄度を実現できる柔軟な設備です。仕組み(FFU→整流→低層排気)、気流方式(一方向流/乱流)、換気方式(オールフレッシュ/循環)、排気開口設計、フィルター選定、運用管理を正しく押さえれば、安定した品質と効率が両立できます。
「どの方式・どのフィルターが最適か」「消防法や温湿度制御は?」といった疑問は、早期段階での試算と図面検討が近道です。まずは要件を整理し、適切な方式を選んでいきましょう。
半導体装置やレイアウトに合わせた完全オーダーメイド設計。トンネル型やパスボックス付きなど、現場の課題に応じて適した構造を提供。
必要な工程や装置周辺のみを局所的に囲うことで、無駄な空調・設備投資をカット。クリーンルームよりも初期費用・維持費ともに圧倒的な低コストを実現できます。
引用元:伸榮産業公式サイト(https://www.s-shin-ei.co.jp/clean_booth.html)
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伸榮産業
引用元:伸榮産業公式サイト
https://www.s-shin-ei.co.jp/clean_booth.html
・独自アルミフレームで強度のある大型オーダーメイド設計が可能
・クラス100~100,000(ISO5~8)に対応、温度・湿度の制御設備によって恒温恒湿環境や低湿度環境を実現可能。
日本エアーテック
引用元:日本エアーテック公式サイト
https://www.airtech.co.jp/
・医薬品製造工場の実績が豊富で、無菌治療室など患者を考慮した設計。
・国内16拠点だけでなく、医薬品製造工場が多数ある中国・シンガポール・韓国・インドなど8つの海外拠点で生産。
アズワン(AXLE)
引用元:アズワン公式サイト
https://www.airtech.co.jp/
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